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| 品牌 | 斯麦克 |
| 货号 | SMK-270693 |
| 用途 | DUV 化学放大光刻胶核心单体(KrF 光刻胶主力),光刻胶树脂合成原料,曝光后脱叔丁基实现溶解度切换,图形分辨率好、线边缘粗糙度优异 |
| 是否危险化学品 | 否 |
| 包装规格 | 100g/500g/1kg/5kg/25kg/200kg |
| 别名 | 4-叔丁氧基苯乙烯;对叔丁氧基苯乙烯;4- 叔 -丁氧基苯乙烯;4-叔丁氧基苯乙烯 |
| CAS编号 | 95418-58-9 |
| 纯度 | 98% |
| 产地/厂商 | 湖北 |
| 是否进口 | 否 |
本品常温为无色透明液体。25℃密度 0.936g/mL,折光率 1.524,熔点 - 38℃;常压沸点 256.8℃,72~73℃(0.1mmHg 减压),闭杯闪点 97℃;不溶于水,可溶于甲苯、PGMEA、二氯甲烷、乙酸乙酯等有机溶剂。属于带酸解保护基的苯乙烯单体,乙烯基可自由基聚合;叔丁氧基为酸敏感保护基团,曝光后在酸催化下脱保护,释放酚羟基,树脂极性、溶解性发生突变;商品一般添加阻聚剂(常用 200ppm 对叔丁基邻苯二酚),强光、高温、强酸环境下易提前聚合。市面主流 98%、99% 光刻级,管控 GC 纯度、水分、金属离子、阻聚剂含量。
主流路线:对羟基苯乙烯与叔丁基化试剂在缚酸体系下醚化;也可通过对叔丁氧基苯甲醛 Wittig 反应制备。粗品水洗脱盐、减压精馏;半导体光刻品级严格控制金属离子、酚原料残留。
DUV 化学放大光刻胶核心单体(KrF 光刻胶主力),光刻胶树脂合成原料,曝光后脱叔丁基实现溶解度切换,图形分辨率好、线边缘粗糙度优异;也用于功能高分子、响应型聚合物、分离膜、酚羟基功能树脂的前驱单体。








