三乙基甲基氢氧化铵（MTEAH，CAS：109334-81-8，25% 水溶液）

本品为无色透明碱性液体，分子量 133.24，季铵碱水溶液，密度 1.011 g/mL（25℃），折光率 1.373，易溶于水，和水完全互溶。 属于短链烷基季铵氢氧化物，碱性强；常温密封稳定；遇酸快速中和成盐；高温条件下容易发生霍夫曼消除，分解生成烯烃、叔胺；要隔绝二氧化碳，避免生成碳酸盐杂质。光刻配套品类会严格控制金属离子、阴离子残留。

制备方法

三乙基甲基季铵盐（溴盐 / 氯盐）经离子交换树脂脱阴离子，得到季铵碱水溶液，再调配浓缩至 25% 含量，过滤除杂、检测金属离子。 管控要点：严格控制氯离子、溴离子、金属杂质，是光刻级重点指标。

主要应用

半导体正胶配套显影液原料、相转移催化碱

1. UV/ArF 光刻：稀释配制正胶显影液，替代 TMAH（四甲基氢氧化铵），调控显影速率、减少胶层溶胀；
2. 有机合成：相转移反应、酯交换、缩合反应的可控有机碱；
3. 科研：溶胶凝胶、分子筛合成、金属氧化物沉淀制备； 对比 TMAH，碳链更长，表面活性略有差异，显影行为不一样。