二丙二醇二甲醚 CAS：111109-77-4

别名：DPGDME、DMM、双丙二醇二甲醚

理化参数

本品常温下为无色透明液体，只带有淡淡的醚类气息，气味柔和不刺鼻。密度 0.903 g/mL，沸点约 175℃，闭口闪点 65℃，凝固点低至 - 80℃，低温环境下依旧保持良好流动性，不容易冻结。它属于非质子型醚类环保溶剂，和水有一定互溶比例，同时可以和醇、酮、酯、芳烃、卤代烃等绝大多数有机溶剂混溶，溶解谱十分宽泛，对各类树脂、高分子、有机原料都具备优秀的溶解与耦合能力。分子结构中没有羟基，不会和异氰酸酯等活性基团发生反应，在聚氨酯、固化体系当中稳定性突出；挥发速率平缓适中，属于慢干型溶剂，成膜过程释放均匀，不容易快速挥发造成漆膜缩孔、针孔、橘皮缺陷。常规储存条件下化学稳定性很好，不容易氧化分解，也不易发生自聚；市面 通产品大多是异构体混合物，纯度、水分、色度、酸度都是核心质控指标，高纯电子级对金属离子、低沸点杂质控制更为严格，属于低 VOC、非 HAP 类绿色替代溶剂，常用来替换管控严格的 NMP、DMF 等高风险溶剂。

主要用途

1. 涂料油墨成膜耦合溶剂（核心用途）：广泛用于水性聚氨酯漆、汽车涂料、木器漆、电泳漆、UV 固化涂料、丝网印刷油墨。作为耦合溶剂搭建水相和树脂相之间的相容桥梁，提升颜料、填料的分散稳定性，延长漆膜开放时间，改善流平效果，减少缩孔、鱼眼等弊病；慢干特性适配厚涂、大件喷涂工艺，满足环保低排放的配方升级需求。
2. 电子精密清洗与光刻配套：PCB 线路板、半导体晶圆、电子元器件清洗剂，高效溶解助焊剂残留、光刻胶残渣、抛光膏与重油污，清洗之后挥发残留极低，对铜、铝、各类基材腐蚀性小，是电子行业替代 NMP 的主流环保方案；也用作光刻胶稀释、剥离工艺配套溶剂。
3. 聚氨酯、树脂合成反应介质：在水性聚氨酯、聚脲、特种聚酰胺合成中充当惰性反应溶剂，因为不含活泼羟基，不会消耗异氰酸酯单体，副反应少，反应体系可控性强，后处理分离简单；也用于酯化、缩合、烷基化催化反应体系。
4. 工业清洗与表面处理：金属精密脱脂、重油污清洗剂、脱漆剂配方组分，耐酸碱体系稳定，在碱性除油、中性清洗配方里发挥润湿溶解作用；也用于锂电导电浆料分散溶剂，提升浆料均匀性和涂布效果。
5. 日化、农药与精细助剂：日化香氛、香水配方的温和溶剂与定香载体，溶解各类香原料，香气释放平稳；农药乳油、悬浮剂的乳化助溶剂，提升原药在体系当中的分散稳定性；纺织印花、匀染助剂组分。

安全要点

本品具有一定刺激性，高浓度蒸气会刺激黏膜，液体溅入眼睛会造成不适，长期反复接触皮肤容易造成干燥脱脂。作业环境保证通风，操作佩戴护目镜、耐溶剂橡胶手套以及防护口罩。本品可燃，远离明火、高温热源和强氧化剂，做好防静电措施。密封阴凉存放，避免长期暴晒。废液归醚类有机危废，按规范收集处置；电子、涂料配方使用按照行业标准管控残留与 VOC 指标。